자외선에 의한 유전자 손상 메커니즘

• 수 프리야 수 브라마 니안 박사 케이트 앤더튼에 의해 검토,B.Sc.(편집자)

  태양 자외선(자외선)노출은 발암 과정의 예비 단계 인 유전자 손상을 유발합니다.모든 세포 과정의 적절한 기능을 위해서는 유전자의 안정성이 매우 중요하다. 자외선에 노출되면 유전자의 구조가 바뀌어 박테리아에서 인간에 이르기까지 모든 살아있는 시스템의 생리적 과정에 영향을 미칩니다.

  • 자외 방사선
  • 자외선에 의한 유전자 손상
  • 자외선에 의해 생성 된 유전 적 병변은 종종 뉴클레오티드 절제술 복구라는 과정을 통해 형성된 직후에 복구됩니다. 뉴 클레아 제 효소는 병변을 포함하는 유전자 세그먼트를 인식하고 제거합니다. 그런 다음,중합 효소는 올바른 염기를 삽입하고 리가 제는 갭을 밀봉합니다. 그러나 수리되지 않은 병변이 축적되거나 수리 메커니즘에 결함이있는 경우 세포 사멸,돌연변이 유발 및 심지어 암으로 이어질 수 있습니다. 소스:
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  • 수프리야 수브라마니아 박사
  • 인용

  자외 방사선

  자연적인 햇빛은 건강한 뼈의 대형을 위한 중요한 양분인 비타민의 생산을 자극합니다. 그러나 햇빛은 또한 자외선의 주요 원천입니다. 과도한 자외선 노출을 얻을 개인은 피부암을 개발의 큰 위험에 있습니다. 자외선에는 세 가지 유형이 있습니다.이 광선은 태양 광선과 태양 광선간에 가장 많이 노출되는 광선입니다. 다행히도,포도당은 지구 표면에 도달 하기 전에 오존층에 의해 흡수 된다.

• 유바 광선(315-400 나노 미터)은 가장 낮은 에너지를 가지고 있으며 피부 깊숙이 침투 할 수 있습니다. 장시간 노출은 피부의 노후화 그리고 주름에 연결되었다. 우바는 또한 흑색 종의 주요 원인입니다.
• 기저 세포 암종과 편평 세포 암종은 포도상 구균 방사선에 의해 발생합니다.

자외선에 의한 유전자 손상

이중 나선에 감겨있는 두 개의 상보 가닥으로 구성됩니다. 유전 메시지는 화학적으로 코딩되어 4 개의 뉴클레오티드 아데닌(에이),티민(티),구아닌(지)및 시토신(기음).

광은 뉴클레오티드 사이의 결합을 직접 간섭한다. 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체와 피리 미딘 이량 체의 두 가지 주요 병변이 있습니다.

두 개의 인접한 피리미딘 염기(티민–티티 또는 시토신–씨티)가 공유결합되어 고리형 고리 구조를 생성할 때 형성된다. 5’끝 씨 6 과 3’끝 씨 4 인접한 피리 미딘의. 이것은 3’말단 염기가 티민 또는 시토신인지 여부에 따라 불안정한 옥세탄 또는 아제 티딘 중간체의 형성을 유도합니다.

이러한 중간체의 후속 자발적 재배치는 6-4 피스를 일으킨다. 피리 미딘 이량 체는 유전자 백본에 꼬임을 유발하여 전사 및 단백질 합성을 중단시킵니다. 6-4 피리 미딘 피리 미돈 부가 물은 다른 광자에 노출되면 이성질체 그들의 듀어 형태로. 포도상 구균에 의해 유발 된 가장 흔한 돌연변이는 다음과 같습니다. 이중 염기 치환(참조…에 티)또한 덜 빈번하지만 발생합니다.광자의 흡수에 의한 간접적 인 손상을 야기한다. 이것은 돌연변이를 일으키는 원인이 되는 일중항 산소 과산화 수소 같이 민감하는 산소 종을 산화하는 생성한다. 가장 흔한 돌연변이는 구아닌이 8-옥소-7,8-디 하이드로 구아닌으로 산화되는 지-티 전환(8-옥소 그)시토신과의 쌍을 방해합니다. 복제 과정에서 아데닌과 8-옥소그 쌍. 두 번째 가닥이 합성 될 때,8-옥소그는 티민으로 대체되어 지-티 트랜스 버젼으로 이어진다.

자외선에 의해 생성 된 유전 적 병변은 종종 뉴클레오티드 절제술 복구라는 과정을 통해 형성된 직후에 복구됩니다. 뉴 클레아 제 효소는 병변을 포함하는 유전자 세그먼트를 인식하고 제거합니다. 그런 다음,중합 효소는 올바른 염기를 삽입하고 리가 제는 갭을 밀봉합니다. 그러나 수리되지 않은 병변이 축적되거나 수리 메커니즘에 결함이있는 경우 세포 사멸,돌연변이 유발 및 심지어 암으로 이어질 수 있습니다.

소스:

• 그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후,그 후.”포토켐 포토바이올 과학. 2002 년 4 월;1(4):225-36. 또한,이 물질의 화학적 특성 및 화학적 특성,화학적 특성,화학적 특성,화학적 특성,화학적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,물리적 특성,”핵산. 2010 년 12 월 16 일;2010:592980. 도이: 10.4061/2010/592980
• 그 결과,자외선의 직접적 및 간접적 인 영향과 그 구성 요소에 대한 직접적인 영향.”제이 포토켐 포토바이올 비.2001 10 월;63(1-3):88-102. 검토

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